脈沖激光沉積/分子束外延聯(lián)用系統(tǒng)

  脈沖激光沉積（PLD）是一種用途非常廣泛的薄膜及納米結構的制備方法。其已成功地應用于各種復雜氧化物、氮化物和多元素材料等的薄膜制備。近年來，激光薄膜制備已發(fā)展到了分子束外延的水平，即激光分子束外延（Laser-MBE）。Laser-MBE使得激光薄膜生長達到了*的水平，如重構、雜質晶相及島狀生長等等。通過與國內外高校的橫向合作，我們可以根據用戶需求，為用戶定制PLD/Laser-MBE聯(lián)用系統(tǒng)。此外，我們也能定制磁控濺射及熱蒸發(fā)等鍍膜設備。

         該系統(tǒng)具有很高的加熱效率（腔體受熱少）及真空度，因而能夠保持低的污染水平及高穩(wěn)定的工作性能。所集成的RHEED 圖像調節(jié)方便，快捷。系統(tǒng)操作簡便，數分鐘即可完成靶源和樣品的更換。另外，本系統(tǒng)具有大的有效抽速，可以保持非常高的使用效率。

馬建行博士在Oak Ridge國家實驗室建立的 Laser-MBE 系統(tǒng)（附1），在上*實現了（過渡金屬氧化物薄膜的）達原子分辨率級的STM原位觀察，為過渡金屬氧化物性質的微觀機理研究開辟了新的途徑。另外，他為UCR 物理系研制的多功能Laser-MBE系統(tǒng)（附2）也被成功地應用于各種超晶格、多層膜的制備及器件物理的研究。

1. J. X. Ma et al, Phys. Rev. Lett. 95, 237210（2005）

2. H.Y. Zhai, J. X. Ma et al, Phys. Rev. Lett. 97, 167201（2006）